تراشه کایرن 9010 با لیتوگرافی سه نانومتری ساخته می‌شود

های‌سیلیکون، از زیرمجموعه‌های هواوی، برای تولید تراشه‌ی نسل بعدی خود آماده می‌شود. این اطلاعات را افشاگری با حساب کاربری RODENT950 در شبکه‌ی اجتماعی ویبو، شبکه‌ای شبیه به توییتر در چین، منتشر کرده است و در پست‌های خود توضیحاتی درباره‌ی تراشه‌ی نسل بعدی های‌سیلیکون ارائه می‌دهد.

تراشه کایرن 9010 با لیتوگرافی سه نانومتری ساخته می‌شود

به گفته‌ی افشاگر چینی، تراشه‌ی نسل بعدی هواوی موسوم به کایرن 9010 با استفاده از لیتوگرافی سه‌نانومتری تولید خواهد شد. های‌سیلیکون فقط وظیفه‌ی طراحی آن را دارد و در واقع، هواوی تولید انبوه تراشه‌ی مدنظر را به شرکت TSMC خواهد سپرد. برنامه‌های TSMC چندی پیش در فضای مجازی قرار گرفت و در آن، اشاره شد شرکت تایوانی در نیمه‌ی دوم سال ۲۰۲۲ تولید انبوه تراشه‌ها با لیتوگرافی سه‌نانومتری را آغاز می‌کند. تراشه‌هایی با لیتوگرافی سه‌نانومتری از معماری بسیار جالبی برخوردار هستند. درحقیقت، چنین تراشه‌هایی در‌مقایسه ‌با مدل‌های پنج‌نانومتری فعلی می‌توانند در فضای مشخص از مدل‌های پیشین تا ۷۰ درصد از ترانزیستورهای بیشتری میزبانی کنند. 

تراشه کایرن 9010

چنین اتفاقی در حالی رقم می‌خورد که تراشه‌های پیشرفته‌ی امروزی ممکن است از بیش از ده‌میلیارد ترانزیستور برخوردار باشند. درحقیقت، تراشه‌های آینده با لیتوگرافی سه‌نانومتری از بیش از هفده‌میلیارد ترانزیستور استفاده خواهند کرد که رقمی حیرت‌آور به‌نظر می‌رسد. تحلیلگران معتقد هستند تراشه‌هایی با فرایند ساخت لیتوگرافی سه‌نانومتری در‌مقایسه‌ با مدل‌های فعلی ۱۰ تا ۱۵ درصدی و در مصرف انرژی ۲۵ تا ۳۰ درصد بهتر عمل می‌کنند. 

 

 

 

نویسنده: م د